三维光学形貌仪
Skywalk三维光学形貌仪集成白光干涉和转盘式针孔共聚焦两种测量技术，同时具有亮场成像、暗场成像、光学变焦多种成像模式，可实现从纳米到微米尺度的非接触式表面测量。 主要用于材料、涂层、器件的高精度三维表面特征测量。适用于粗糙、光滑、坚硬、柔软、黏性等各种表面，以及金属材料、非金属材料、复合材料、薄膜、涂层等不同材料表面微观结构特征的3D成像，提供各种粗糙度，表面结构的台阶高度，角度、体积、长度、深度等多种数据的测试分析、相似特征的统计分析，轮廓提取等。
Skywalk三维光学形貌仪集成白光干涉和转盘式针孔共聚焦两种测量技术，同时具有亮场成像、暗场成像、光学变焦多种成像模式，可实现从纳米到微米尺度的非接触式表面测量。 主要用于材料、涂层、器件的高精度三维表面特征测量。适用于粗糙、光滑、坚硬、柔软、黏性等各种表面，以及金属材料、非金属材料、复合材料、薄膜、涂层等不同材料表面微观结构特征的3D成像，提供各种粗糙度，表面结构的台阶高度，角度、体积、长度、深度等多种数据的测试分析、相似特征的统计分析，轮廓提取等。
